重生千禧大玩家 第912节(3/3)

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50nm。

      他们生产的65nmarf干式光刻机,算是第四代,也就是步进式投影式光刻机,制程工艺最高可以推进到65nm,想要更上一层——

      就得用到浸入技术,也就是让镜头和硅片之间的空间浸泡于液体之中,在此基础上,就有了四代半的浸入步进式投影式光刻机。

      本来,逻辑跟asml这些国际一线的光刻机厂商,就只剩arfi这么个半代差距。

      但euv光刻机一出现,又把这个差距拉到了至少1.5代,而且这个技术差距,不像制程工艺那么好追,是整个产业链的全面落后。

      “不是我急,陆总,一旦euv预生产成功的话,英特尔、三星、台积电也许不出三五年,就能得到euv光刻机的生产线……”

      尹志尧话里无不透着焦虑。

      “尹教授,这台euv,asml、三星、英特尔、蔡司、台积电它们花了多久才研制出来?”陆飞透过面罩的玻璃,直直看去。

      “从林本坚提出浸润式微影技术的理论,到现在,大概十三、十四年。”

      梁孟松站出来回答。

      “对嘛,这不就结了。”

      陆飞拍了拍尹志尧的肩膀,“euv集欧美日韩这么多全球最顶尖的半导体公司和人才,也要花13年的时间,何况是我们呢!”

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